光刻机国产化进程加速。

　　在全球半导体产业格局深刻变革的背景下，我国光刻机国产化进程迎来重大突破。9月23日，第二十五届中国国际工业博览会在上海国家会展中心隆重开幕。在这场工业盛会中，芯上微装携多款重磅新品精彩亮相，并凭借卓越的技术实力，成功斩获展会最高荣誉“工博会CIIF 大奖”及“集成电路创新成果奖”。同日，上海微电子(SMEE)展台上首次公开亮相了极紫外(EUV)光刻机参数图。

　　今天（9月24日）光刻机概念继续突飞猛进，概念龙头张江高科(600895)涨停，再创历史新高。

　　光刻机国产化进程加速

　　国金证券表示，上海微电子以及芯上微装各自都展出重磅产品，背后对应的是今年产业端重磅的“0—1”突破，先进封装机台正式量产、干法DUV近期将进入量产测试阶段、国产EUV进入原理机搭建阶段（本次展出为EUV概念验证机），国产光刻机产业进入爆发元年。

　　根据华鑫证券研报，在国家政策支持下，国内企业加速研发突破光刻机制造技术，目前国产光刻机在90nm及以下工艺节点方面取得了重要进展。例如，上海微电子自主研发的600系列光刻机已实现90nm工艺的量产，并正在进行28nm浸没式光刻机的研发工作。近期，宇量昇与中芯国际的合作测试是国产光刻机突破的重要信号。

　　从产业影响看，华鑫证券认为光刻机技术的突破将带动上游材料、精密机械等配套产业升级，加速光刻胶、光学部件等“卡脖子”材料的国产化进程，形成“龙头带动、多点突破”的产业升级格局。